Στόχος κεραμικής διασποράς - Στόχος οξειδίου του ινδίου

Στόχος κεραμικής διασποράς οξειδίου του ινδίου

Περιγραφή προϊόντος:
Οι διάφοροι κεραμικοί στόχοι μας, που παράγονται με τη χρήση θερμής πίεσης κενού, διαθέτουν κορυφαία τεχνολογία και ώριμες διαδικασίες παραγωγής. Αυτά τα προϊόντα χρησιμοποιούνται κυρίως στην ενέργεια λεπτών φιλμ ηλιακής ενέργειας, οθόνες επίπεδης επιφάνειας, οπτικές επιστρώσεις, ημιαγωγούς και στρατιωτικές εφαρμογές.

Η εταιρεία μας συνεργάζεται με πολυάριθμα φημισμένα πανεπιστήμια και κολέγια, αφιερωμένα στην έρευνα και ανάπτυξη νέων υλικών και διαδικασιών, και συνεχίζει να παρέχει υψηλής ποιότητας προϊόντα στόχων και υπηρεσίες σε πελάτες τόσο εγχώρια όσο και διεθνώς.

Εισαγωγή στόχου οξειδίου του ινδίου:
Οι επίπεδοι στόχοι Ln203 παράγονται με τη χρήση διαδικασίας θερμής πίεσης κενού. Μπορούμε να παράγουμε διαμέτρους έως 300mm, με το πάχος να προσαρμόζεται για να καλύπτει τις απαιτήσεις των πελατών.

Τεχνικές παράμετροι: Πυκνότητα 5.5g/cm³, Καθαρότητα: 99.99-99.999%

Έλεγχος ποιότητας: