Στόχος ψεκασμού κεραμικών προϊόντων Στόχος οξειδίου του ψευδαργύρου

Στόχος κεραμικής διασποράς, Στόχος οξειδίου του ψευδαργύρου

Περιγραφή προϊόντος:
Οι διάφοροι κεραμικοί στόχοι μας, που παράγονται με θερμή πίεση κενού, διαθέτουν τεχνολογία αιχμής και ώριμες διαδικασίες παραγωγής. Αυτά τα προϊόντα χρησιμοποιούνται κυρίως στην ενέργεια λεπτών φιλμ ηλιακής ενέργειας, οθόνες επίπεδης επιφάνειας, οπτικές επιστρώσεις, ημιαγωγούς και στρατιωτικές εφαρμογές.

Η εταιρεία μας συνεργάζεται με πολυάριθμα φημισμένα εγχώρια και διεθνή πανεπιστήμια και είναι αφοσιωμένη στην έρευνα και ανάπτυξη νέων υλικών και διαδικασιών, παρέχοντας συνεχώς ένα ευρύ φάσμα υψηλής ποιότητας προϊόντων και υπηρεσιών στόχων σε πελάτες τόσο εγχώρια όσο και διεθνώς.

Εισαγωγή στόχου οξειδίου του ψευδαργύρου:

Οι επίπεδοι στόχοι ZnO παράγονται με διαδικασία θερμής πίεσης κενού. Είναι δυνατές μέγιστες διάμετροι 300mm, με πάχη προσαρμόσιμα για να καλύπτουν τις απαιτήσεις των πελατών.

Τεχνικές παράμετροι:Σχετική πυκνότητα: >99%, καθαρότητα: 99,95%.

Εφαρμογές:
Λεπτό φιλμ ηλιακής ενέργειας, γυαλί χαμηλής εκπομπής, οθόνες επίπεδης επιφάνειας και οπτικές επιστρώσεις.

Έλεγχος ποιότητας: