Κεραμικό στόχο ψεκασμού Ζιγκούχο θειικό υλικό στόχο

Το υλικό στόχου ZnS flat υιοθετεί τη διαδικασία πυροσυσσωμάτωσης θερμής πίεσης κενού, η οποία μπορεί να παραχθεί. Η μέγιστη διάμετρος είναι 300mm και το πάχος υποβάλλεται σε επεξεργασία σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη.

• Πυκνότητα: 4.0g/cm³
• Καθαρότητα: 99.99% - 99.999%

Χρησιμοποιείται ευρέως σε:

• Τσιπ ημιαγωγών
• Τερματικά φωτοβολταϊκά ηλιακής ενέργειας
• Οθόνες επίπεδης επιφάνειας
• Ειδικές επιστρώσεις και άλλες βιομηχανίες

Διάφορα κεραμικά υλικά στόχων που παράγονται με τη μέθοδο πυροσυσσωμάτωσης θερμής πίεσης κενού έχουν προηγμένη τεχνολογία και ώριμες διαδικασίες παραγωγής. Τα προϊόντα χρησιμοποιούνται κυρίως σε τομείς όπως:

• Ηλιακή ενέργεια λεπτού φιλμ
• Οθόνες επίπεδης επιφάνειας
• Οπτικές επιστρώσεις
• Ημιαγωγοί
• Στρατιωτική βιομηχανία

Η εταιρεία έχει συνεργαστεί με πολλά γνωστά πανεπιστήμια στο εσωτερικό και στο εξωτερικό, δεσμευόμενη στην έρευνα και ανάπτυξη νέων υλικών και διαδικασιών και συνεχίζει να παρέχει διάφορα υψηλής ποιότητας προϊόντα και υπηρεσίες υλικών στόχων σε εγχώριους και ξένους πελάτες.