logo
  • Greek
Αρχική Σελίδα ΠροϊόνταΤεχνικά κεραμικά μέρη

Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα

Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα

Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα
Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα

Μεγάλες Εικόνας :  Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα

Λεπτομέρειες:
Τόπος καταγωγής: Κίνα
Μάρκα: ZG
Πιστοποίηση: CE
Αριθμό μοντέλου: Κράτη μέλη
Πληρωμής & Αποστολής Όροι:
Ποσότητα παραγγελίας min: 1 κομμάτι
Τιμή: USD10/piece
Συσκευασία λεπτομέρειες: Ισχυρό ξύλινο κιβώτιο για τη σφαιρική ναυτιλία
Χρόνος παράδοσης: 3 εργάσιμες ημέρες
Όροι πληρωμής: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Δυνατότητα προσφοράς: 10000 κομμάτια το μήνα

Τα παλόμενα συστήματα απόθεσης PLD λέιζερ ψεκάζουν το στόχο για ΣΥΝΕΧΈΣ RF Magnetron τα ψεκάζοντας συστήματα

περιγραφή
Εφαρμογή: Παλόμενα συστήματα απόθεσης λέιζερ (PLD) και Magnetron συνεχούς ρεύματος ή RF ψεκάζοντας συστήματα Διάμετρος: Ø 1»/Ø 2»/Ø 3»/Ø 4»/Ø 6»/Ø 8»
Πάχος: 36mm Βαθμός: Βαθμός ΠΡΙΟΝΙΩΝ και οπτικός βαθμός
Επισημαίνω:

Τα συστήματα PLD ψεκάζουν το στόχο

,

Magnetron RF η επιμετάλλωση ψεκάζει το στόχο

,

Παλόμενος ψεκάζοντας στόχος απόθεσης λέιζερ

 

Ψεκάστε το στόχο για τα παλόμενα συστήματα απόθεσης λέιζερ (PLD) και Magnetron συνεχούς ρεύματος ή RF τα ψεκάζοντας συστήματα

 

Παρέχουμε ότι ένα ευρύ φάσμα ψεκάζει το στόχο συμπεριλαμβανομένου του μετάλλου, κράμα, σπάνια γαία, ενιαίο κρύσταλλο, ένωση, και ο διάφορος κεραμικός στόχος, όπως το οξείδιο, το νιτρίδιο, το καρβίδιο, το βορίδιο, το σουλφίδιο, το σεληνίδιο και Telluride ψεκάζει το στόχο. Παρέχουμε μια πλήρη γραμμή επιμετάλλωσης των υλικών στόχων κατάλληλων για τα παλόμενα συστήματα απόθεσης λέιζερ (PLD) και Magnetron συνεχούς ρεύματος ή RF τα ψεκάζοντας συστήματα, αυτοί οι στόχοι μπορούν να κατασκευαστούν για να εγκαταστήσουν όλα τα ψεκάζοντας συστήματα συμπεριλαμβανομένου του στρογγυλού, ορθογώνιου, s-πυροβόλου όπλου, του δέλτα, και του δαχτυλιδιού. Ψεκάστε το στόχο μπορεί να κατασκευαστεί στη στρογγυλή ή τετραγωνική μορφή, με το πίσω πιάτο ή χωρίς πίσω πιάτο depands στο ψεκάζοντας υλικό συστημάτων και στόχων που έχετε, το τυποποιημένο μέγεθός μας από 1» σε 12 «στη διάμετρο, σειρά πάχους από 1 χιλ., 3 χιλ. σε 6 χιλ., στην ενιαία ή κατασκευή πολλαπλάσιος-κομματιού. Επιπλέον, μπορούμε να προσφέρουμε τις προδιαγραφές συνήθειας που σχεδιάζονται στις μοναδική ανάγκες συμπεριλαμβανομένου, τη διάσταση, το πάχος, την αγνότητα, την πυκνότητα, το ομοιόμορφο μέγεθος σιταριού, το ποσοστό σύνθεσης, και το διαφορετικό πίσω πιάτο σας. Πρέπει διάφορος να ψεκάσουμε τους στόχους στο απόθεμα και μπορούμε να επεξεργαστούμε στη μηχανή στην προδιαγραφή σας με την καλή ποιότητα. Μας ελάτε σε επαφή με για περισσότερες πληροφορίες.

Μέθοδος κατασκευής Τομέας εφαρμογής
Κενή καυτή συμπίεση Ημιαγωγός
Καυτή ισοστατική συμπίεση Αποθήκευση στοιχείων
Κρύα ισοστατική συμπίεση Οπτικοηλεκτρονική
Κενή συμπύκνωση Επίπεδη οθόνη
Κενή τήξη τόξων Ηλιακό κύτταρο

 

Προδιαγραφή προϊόντων

 

Αγνότητα 99.9%/99,99%/99,999%
Διάμετρος Ø 1»/Ø 2»/Ø 3»/Ø 4»/Ø 6»/Ø 8»
Πάχος 3 χιλ. ~ 6 χιλ.
Πίσω πιάτο Χαλκός OFHC
Σύνδεση Ίνδιο/άργυρος εποξικοί
Συσκευασία Κενό που σφραγίζεται

1. Το βορίδιο ψεκάζει το στόχο

CrB, FEB, HfB2, LaB6, MgB2, Mo2B5, NbB, SmB6, ετικέττα, TiB2, WB, VB, VB2, ZrB2

 

2. Το καρβίδιο ψεκάζει το στόχο

B4C, Cr3C2, HfC, Mo2C, NbC, SIC, TAC, σπασμός, TiCN, VC, WC, VC, ZrC

 

3. Το φθορίδιο ψεκάζει το στόχο

BaF2, CaF2, CeF3, FeF2, KF, LaF3, PbF2, MgF2, NaF

 

4. Το νιτρίδιο ψεκάζει το στόχο

AlN, ΔΙΣΕΚΑΤΟΜΜΥΡΙΟ, CrN, GaN, HfN, πανδοχείο, NbN, NbCrN, Si3N4, Tan, κασσίτερος, VN, ZnN, ZRN, ZrCN

 

5. Το οξείδιο ψεκάζει το στόχο

Al2O3, ATO, ΑΖΩΤΟΎΧΟ, BaTiO3, BSCCO, ΒΣΤ, CeO2, CuO, Cr2O3, Fe2O3, HfO2, In2O3, ITO, IZO, IZGO, IZTO, LaAl2O3, LaSrMnO3, LiNbO3, MgO, MoO3, NIO, Nb2O5, PbTiO3, PZT, Sb2O3, SiO, SiO2, SnO2, SrRuO3, SrTiO3, Ta2O5, TiO2, SnO2, V2O5, WO3, Y2O3, Yb2O3, YBCO, YSZ, ZnO, ZAO, ZGO, ZIO, ZTO

 

6. Το σεληνίδιο ψεκάζει το στόχο

Al2Se3, Bi2Se3, CdSe, CuSe, Cu2Se, FeSe2, GeSe, In2Se3, MoSe2, MnSe, NbSe2, PbSe, Sb2Se3, SnSe, TaSe2, WSe2, ZnSe

 

7. Η μεταλλική ένωση πυριτίου ψεκάζει το στόχο

CoSi2, CrSi2, FeSi2, HfSi2, MoSi2, NbSi2, NiSi2, TaSi2, TiSi2, WSi2, VSi2, ZrSi2

 

8. Το σουλφίδιο ψεκάζει το στόχο

CD, επειδή, Cu2S, FeS2, αέριο, GeS, In2S3, PbS, MoS2, ΝΑΚ, TiS2, Sb2S3, SnS, WS2, ZnS

 

9. Telluride ψεκάζει το στόχο

Al2Te3, Bi2Te3, CdTe, χαριτωμένο, πύλη, Ga2Te3, GeTe, PbTe, MnTe, MoTe2, NbTe2, TaTe2, SbTe, SnTe, WTe2, ZnTe
 

 

Στοιχεία επικοινωνίας
HENAN ZG INDUSTRIAL PRODUCTS CO.,LTD

Υπεύθυνος Επικοινωνίας: Daniel

Τηλ.:: 18003718225

Φαξ: 86-0371-6572-0196

Στείλετε το ερώτημά σας απευθείας σε εμάς (0 / 3000)