Υψηλότερο άριστο διηλεκτρικό στρώμα γκοφρετών οξειδίων ομοιομορφίας θερμικό ως μονωτή

Θερμική γκοφρέτα οξειδίων, υψηλότερη ομοιομορφία, και υψηλότερη διηλεκτρική δύναμη, άριστο διηλεκτρικό στρώμα ως μονωτή

Το θερμικό στρώμα οξειδίων ή διοξειδίου πυριτίου διαμορφώνεται στη γυμνή επιφάνεια πυριτίου στην ανυψωμένη θερμοκρασία παρουσία ενός οξειδωτικού, η διαδικασία καλείται θερμική οξείδωση. Το θερμικό οξείδιο αυξάνεται κανονικά σε έναν οριζόντιο φούρνο σωλήνων, στη σειρά θερμοκρασίας από 900°C ~ 1200°C, χρησιμοποιώντας είτε μια «υγρή» είτε «ξηρά» μέθοδο αύξησης. Το θερμικό οξείδιο είναι ένα είδος «αυξημένου» στρώματος οξειδίων, έναντι κατατεθειμένου του CVD στρώματος οξειδίων, έχει μια υψηλότερη ομοιομορφία, και η υψηλότερη διηλεκτρική δύναμη, αυτό είναι ένα άριστο διηλεκτρικό στρώμα ως μονωτής. Στις περισσότερες βασισμένες στο πυρίτιο συσκευές, το θερμικό στρώμα οξειδίων διαδραματίζει έναν σημαντικό ρόλο για να κατευνάσει την επιφάνεια πυριτίου για να ενεργήσει ως νάρκωση των εμποδίων και ως διηλεκτρικά επιφάνειας. παρέχουμε τη θερμική γκοφρέτα οξειδίων στη διάμετρο από 2» σε 12», επιλέγουμε πάντα τον πρωταρχικούς βαθμό και την ατέλεια - ελεύθερη γκοφρέτα πυριτίου ως υπόστρωμα για την ανάπτυξη του υψηλού στρώματος οξειδίων ομοιομορφίας θερμικού για να καλύψουμε τις συγκεκριμένες απαιτήσεις σας. Μας ελάτε σε επαφή με για περισσότερες πληροφορίες στο χρόνο τιμών & παράδοσης.

Θερμική ικανότητα οξειδίων

Χαρακτηριστικά μετά από τη θερμική διαδικασία οξείδωσης, και η μπροστινή πλευρά και η πίσω πλευρά της γκοφρέτας πυριτίου έχουν το στρώμα οξειδίων. Σε περίπτωση που μόνο ένα δευτερεύον στρώμα οξειδίων απαιτείται, μπορούμε να αφαιρέσουμε πίσω το οξείδιο και να προσφέρουμε μια δευτερεύουσα θερμική γκοφρέτα οξειδίων για σας.
 

Θερμική εφαρμογή γκοφρετών οξειδίων